Overview

Ce livre se concentre sur le développement d'une nouvelle structure qui peut être utilisée en entreprise pour former un dispositif avec deux couches de Si déformées dans la région du canal formant un système nano-MOS à canal déformé tri-couche sur isolant (HOI), qui peut être mis en oeuvre pour former un NanoFET. Le canal à hétérostructure basé sur le NanoFET, constitué de couches de Si doublement déformées et enrichies en mobilité, prenant en sandwich le SiGe déformé entre les deux, améliore de manière significative la mobilité des électrons par rapport au dispositif conventionnel de MOSFET à canal s-Si sur SiGe détendu, ce qui conduit à une amélioration des performances du dispositif sans mise en oeuvre d'une mise à l'échelle additionnelle.

Full Product Details

9786209848070

Table of Contents

Reviews

Author Information

Tab Content 6

Countries Available