Overview

Niniejsza książka to specjalistyczna monografia badająca osadzanie i zastosowanie wysokiej jakości cienkich warstw azotku glinu (AlN) hodowanych w niskich temperaturach przy użyciu wspomaganego plazmą osadzania warstw atomowych (PEALD). Szczególowo opisuje, w jaki sposób PEALD przezwycięża ograniczenia tradycyjnych metod wysokotemperaturowych, umożliwiając wzrost krystalicznego AlN z ostrymi granicami fazowymi i doskonalą jednorodnością na podlożach wrażliwych na temperaturę, takich jak krzem i GaAs. Książka systematycznie przedstawia badania autorów, obejmując optymalizację procesów, inżynierię powierzchni międzyfazowych oraz fundamentalną zależnośc między parametrami osadzania a wlaściwościami warstw. Ponadto podkreśla funkcjonalne zastosowanie tych warstw w nowatorskich dziedzinach, wykazując ich rolę jako warstw pasywacyjnych i modyfikujących interfejsy, co znacząco poprawia wydajnośc nanofotonicznych matryc emiterów oraz ogniw slonecznych uczulanych kropkami kwantowymi. Ogólnie rzecz biorąc, stanowi ona kompleksowy przewodnik od podstaw inżynierii materialowej po integrację zaawansowanych urządzeń optoelektronicznych i energetycznych.

Full Product Details

9786209673535

Table of Contents

Reviews

Author Information

Tab Content 6

Countries Available