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As características da camada porosa de Si formada pelo condicionamento químico de p-Si com prata em solução aquosa de HF/HNO3 são influenciadas pela concentração de iões de Ag no banho de revestimento, pelas concentrações do condicionador (HF) e do agente oxidante (HNO3) e pelo tempo de condicionamento do substrato de Si. Os resultados do SEM confirmaram que a deposição de iões de prata a partir de uma solução de AgNO3 a 1,0 × 10-3 M em p-Si antes do ataque químico em HF/HNO3 resultou numa PSL uniforme, em comparação com as outras concentrações de nitrato de prata. Os dados de impedância revelaram que, quando as concentrações de HF e de ácido nítrico aumentam, o mesmo acontece com a dissolução do Si. O fabrico de PSL com orifícios redondos regulares e de pequeno diâmetro foi mais rápido com o ataque químico modificado com Ag do p-Si do que com o tradicional ataque com corante na mesma solução de ataque, que produziu poros de largura considerável. A ausência de um pico de prata nas medições de EDX para a PSL resultante do ataque químico com resistência à Ag sugeriu que a Ag depositada se tinha dissolvido totalmente na solução após o ataque. Os resultados de SEM e AFM revelaram que o diâmetro dos nanoporos e a rugosidade da superfície aumentaram com o aumento da duração do condicionamento.

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9786206927372

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