Overview

Questo libro è una monografia specializzata che esplora la deposizione e l'applicazione di film sottili di nitruro di alluminio (AlN) di alta qualità cresciuti a basse temperature utilizzando la deposizione di strati atomici assistita da plasma (PEALD). Descrive in dettaglio come la PEALD superi i limiti dei tradizionali metodi ad alta temperatura, consentendo la crescita di AlN cristallino con interfacce nitide ed eccellente uniformità su substrati sensibili alla temperatura come silicio e GaAs. Il libro presenta sistematicamente la ricerca degli autori, coprendo l'ottimizzazione del processo, l'ingegneria delle interfacce e la relazione fondamentale tra i parametri di deposizione e le proprietà del film. Evidenzia inoltre l'applicazione funzionale di questi film in settori all'avanguardia, dimostrando il loro ruolo come strati di passivazione e modifica delle interfacce per migliorare significativamente le prestazioni di array di emettitori nano-fotonici e celle solari sensibilizzate con punti quantici. Nel complesso, fornisce una guida completa dai fondamenti della scienza dei materiali all'integrazione di dispositivi optoelettronici ed energetici avanzati.

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9786209670978

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