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Este livro é uma monografia especializada que explora a deposição e a aplicação de filmes finos de nitreto de alumínio (AlN) de alta qualidade crescidos a baixas temperaturas utilizando a Deposição de Camadas Atómicas Assistida por Plasma (PEALD). Detalha como a PEALD ultrapassa as limitações dos métodos tradicionais de alta temperatura, permitindo o crescimento de AlN cristalino com interfaces nítidas e excelente uniformidade em substratos sensíveis à temperatura, como o silício e o GaAs. O livro apresenta sistematicamente a investigação dos autores, abrangendo a optimização de processos, a engenharia de interfaces e a relação fundamental entre os parâmetros de deposição e as propriedades do filme. Destaca ainda a aplicação funcional destes filmes em áreas de vanguarda, demonstrando o seu papel como camadas de passivação e de modificação de interfaces para melhorar significativamente o desempenho de matrizes de emissores nanofotónicos e células solares sensibilizadas por pontos quânticos. No geral, fornece um guia abrangente desde os fundamentos da ciência dos materiais até à integração de dispositivos optoelectrónicos e de energia avançados.

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9786209601859

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